Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
Gratis thuislevering in België vanaf € 30
Ruim aanbod met 7 miljoen producten

Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
Gratis thuislevering in België vanaf € 30
Ruim aanbod met 7 miljoen producten

Winkels

Verlanglijstje

Winkels

Verlanglijstje

Zoeken

Volg ons op

Wist je dat er in Vlaanderen voor iedereen een Standaard Boekhandel is binnen een straal van 7 km?

Zoek een winkel

€ 57,95

+ 115 punten

Levering 2 à 3 weken

Eenvoudig bestellen

Veilig betalen

Gratis thuislevering vanaf € 30 (via bpost)

Gratis levering in je Standaard Boekhandel

Omschrijving

For the past four decades, geometric scaling of silicon CMOS transistors has enabled not only an exponential increase in circuit integration density - Moore's Law - but also a corresponding enhancement in the transistor performance. Simple MOSFET geometric scaling has driven the industry to date. However, as the transistor gate lengths drop below 35nm and the gate oxide thickness is reduced to 1nm, physical limitations such as off-state leakage current and power density make geometric scaling an increasingly challenging task. In order to continue CMOS device scaling, innovations in device structures and materials are required and the industry needs a new scaling vector. Starting at the 90 and 65nm technology generation, strained silicon has emerged as one such innovation. Other device structures such as multigate FETs may be introduced to meet the scaling challenge. This book shares results and physical models related to MOSFETs and to discuss innovative approaches necessary to continue the transistor scaling. Expanded versions of presentations in the areas of technology development are featured